㈠ smee是什麼公司
上海一家生產光刻機的公司。實質是軍方的不能說太多，你諒解下。
㈡ 上海微電子裝備有限公司是不是上市公司啊急求~~
截止2020年9月上海微電子裝備有限公司是不是上市公司。上海微電子裝備有限公司坐落於張江高科技園區內，鄰近國家集成電路產業基地、國家半導體照明產業基地和國家863信息安全成果產業化（東部）基地等多個國家級基地。
公司成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV／3D、TFT－OLED等製造領域。
(2)上海微電子裝備公司SMEE股票代碼擴展閱讀：
公司擁有一支多學科、高科技人才隊伍和完善的產品開發方法和設備，並支持微電子設備研發的光學、機械、電氣控制、環境測控技術平台的硬體和軟體，以及其他可以關鍵設備——多學科的集成電路光刻機設計、製造的集成，測試和測試過程。
該技術涉及光學、結構、動力學、精密運動與控制、軟體工程、精密測量、微環境控制等多個領域。積極參加國際學術和技術交流活動，努力培養一支思想先進、方法科學、視野開闊、具有相應高科技研發工程能力的國際化人才隊伍。
參考資料來源：網路－上海微電子裝備有限公司
㈢ 上海微電子裝備有限公司怎麼樣啊
你去了嗎？公司如何？
㈣ 上海微電子裝備有限公司是國企嗎
是工信部下屬的國企。做微電子及相關產業。 主要光刻技術
㈤ 上海微電子裝備有限公司的產品介紹
600掃描光刻機系列—前道IC製造
基於先進的掃描光刻機平台技術，提供覆蓋前道IC製造90nm節點以上大規模生產所需，包含90nm、130nm和280nm等不同解析度節點要求的ArF、KrF及i-line步進掃描投影光刻機。該系列光刻機可兼容200mm和300mm矽片。
500步進光刻機系列—後道IC、MEMS製造
基於先進的步進光刻機平台技術，提供覆蓋後道IC封裝、MEMS/NEMS製造的步進投影光刻機。該系列光刻機採用高功率汞燈的ghi線作為曝光光源，其先進的逐場調焦調平技術對薄膠和厚膠工藝，以及TSV-3D結構等具有良好的自動適應性，並通過採用具有專利的圖像智能識別技術，無需專門設計特殊對准標記。該系列設備具有高解析度、高套刻精度和高生產率等一系列優點，可滿足用戶對設備高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生產需求。
200光刻機系列—AM-OLED顯示屏製造
200系列投影光刻機綜合採用先進的步進光刻機平台技術和掃描光刻機平台技術，專用於新一代AM-OLED顯示屏的TFT電路製造。該系列光刻機不僅可用於基板尺寸為200mm × 200mm的工藝研發線，也可用於基板尺寸為G2.5(370mm × 470mm)和G4.5(730mm × 920mm)的AM-OLED顯示屏量產線。
矽片邊緣曝光機系列——晶元級封裝工藝應用
SMEE開發的矽片邊緣曝光機提供了滿足晶元級封裝工藝中對矽片邊緣進行去膠處理的能力，設備可按照客戶要求配置邊緣曝光寬度、矽片物料介面形式、曝光工位等不同形式。設備同時兼容150mm、200mm和300mm等三種不同規格的矽片，邊緣曝光精度可到達0.1mm。設備配置了高功率光源，具有較高的矽片面照度，提高了設備產率。
精密溫控系列—光刻機、刻蝕機應用
SMEE為集成電路行業提供多種超/高精度溫度控制裝置，可分別用於半導體前道設備中的掃描光刻機和各種用途的刻蝕機等設備的精密溫度控制，也可應用於精密光學、儀器、精密機床製造及各種科學實驗場所。溫度精度可達0.01℃，控溫范圍可達-30℃至90℃。
精密溫度控制解決方案
SMEE提供各種類型的超高精度溫度控制全面解決方案，可按客戶具體需求提供從設計、製造、安裝、調試到維護的一條龍服務，可應用於光學鏡頭、光柵、精密元件、精密儀器和精密機床製造等領域，尤其適合於材料提純、測試、測量和定位定準等各種科學實驗場合。