晶元光刻機
發布時間: 2023-01-06 05:18:56
Ⅰ 國產光刻機真實現狀
中國的光刻機現在達到22納米。在上海微電子技術突破之前，我國國產光刻機還停留在只製造90nm晶元的階段。
這一次中國從90nm突破到22nm，意味著光刻機製造的一些關鍵核心領域實現了國產化。掌握核心技術的重要性不言而喻。突破關鍵區域後，高階光刻機的R&D速度只會越來越快。國產光刻機突破封鎖，成功研發22nm光刻機。中國芯逐漸崛起。隨著信息社會的快速發展，手機、電腦、電視等電子設備變得越來越「迷你」。從以前的「手機」到現在只有幾個硬幣厚的時尚手機，從老式的矮胖電視到現在的輕薄液晶電視，無一不離開集成電路的發展，也就是我們通常所說的「晶元」。自從1958年世界上第一塊集成電路問世以來，體積越來越小，性能卻越來越強。光刻機是半導體晶元製造行業的核心設備。以光刻機為代表的高端半導體設備支撐著集成電路產業的發展，晶元越來越小，集成電路越來越多，可以把終端做得小而精緻。2002年，光刻機被列入國家863重大科技攻關計劃，由科技部和上海市共同推動成立上海微電子設備有限公司(以下簡稱「SMEE」)。2008年，國家啟動了「02」重大科技項目，持續攻關。經過十餘年的研發，我國基本掌握了高端光刻機的集成技術，部分掌握了核心部件的製造技術，成為集光學、機械、電子等多學科前沿技術於一體的「智能製造行業的珠穆朗瑪峰」。
